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專利名稱:氫化裂解催化劑及其製造方法
國家:中華民國
專利編號:I846081
領域類別:化學、冶金、組合化學
公告讓與日期:2024/06/24
專利介紹:

一種氫化裂解催化劑,係由矽基分子篩、鎳氧化物及不可避免的雜質所構成。矽基分子篩包含複數個孔隙,矽基分子篩佔67至82wt%。鎳氧化物填充於矽基分子篩的孔隙中,佔18至33wt%。不可避免的雜質填充於矽基分子篩的孔隙中。矽基分子篩的孔隙率大於0.16cm3/g;且氫化裂解催化劑粉末粒徑大小為0.4至2μm。利用高於18wt%的鎳氧化物來做為氫化裂解催化劑,突破了氫化裂解催化過程主要依賴貴金屬的偏見,而能達到與傳統貴金屬催化劑類似的裂解及異構化效果。從而,能夠利用更加簡易、易於量產的方法,來製作出適合用於氫化裂解催化劑。達到成本低廉、產量高的優點。